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聯(lián)系金蒙新材料
- 為什么SiC在高頻下的表現(xiàn)優(yōu)于IGBT?[ 12-20 14:39 ]
- 在大功率應用中,過去主要使用IGBT和雙極晶體管,目的是降低高擊穿電壓下出現(xiàn)的導通電阻。然而,這些設(shè)備提供了顯著的開關(guān)損耗,導致發(fā)熱問題限制了它們在高頻下的使用。使用碳化硅可以制造肖特基勢壘二極管和MOSFET等器件,實現(xiàn)高電壓、低導通電阻和快速運行。
- 為什么碳化硅能承受這么高的電壓?[ 12-20 14:35 ]
- 功率器件,尤其是MOSFET,必須能夠處理極高的電壓。由于電場的介電擊穿強度比硅高約十倍,SiC可以達到非常高的擊穿電壓,從600V到幾千伏。SiC可以使用比硅更高的摻雜濃度,并且漂移層可以做得非常薄。漂移層越薄,其電阻越低。理論上,給定高電壓,單位面積漂移層的電阻可以降低到硅的1/300。
- 為什么SiC在功率應用中戰(zhàn)勝了Si?[ 12-20 14:32 ]
- 碳化硅(SiC)是一種由硅(Si)和碳(C)組成的半導體化合物,屬于寬帶隙(WBG)材料系列。它的物理結(jié)合力非常強,使半導體具有很高的機械、化學和熱穩(wěn)定性。寬帶隙和高熱穩(wěn)定性允許SiC器件在高于硅的結(jié)溫下使用,甚至超過200°C。碳化硅在功率應用中的主要優(yōu)勢是其低漂移區(qū)電阻,這是高壓功率器件的關(guān)鍵因素。 盡管是電子產(chǎn)品中使用最廣泛的半導體,但硅開始顯示出一些局限性,尤其是在高功率應用中。這些應用中的一個相關(guān)因素是半導體提供的帶隙或能隙。當帶隙很高時,它使用的電子設(shè)備可以更小、運行得更快、更可靠。它還可
- 碳化硅在電子領(lǐng)域有哪些應用?[ 12-20 14:28 ]
- 碳化硅是一種非常適合電力應用的半導體,這主要歸功于它能夠承受高電壓,比硅可使用的電壓高十倍。 基于碳化硅的半導體具有更高的熱導率、更高的電子遷移率和更低的功率損耗。 碳化硅二極管和晶體管還可以在更高的頻率和溫度下工作,而不會影響可靠性。 SiC器件的主要應用,例如肖特基二極管和FET/MOSFET晶體管,包括轉(zhuǎn)換器、逆變器、電源、電池充電器和電機控制系統(tǒng)。
- 金蒙新材料納米碳化硅特點?[ 08-29 08:34 ]
- 金蒙新材料生產(chǎn)的納米碳化硅微粉GCW0.5產(chǎn)品主要用于無壓燒結(jié)碳化硅陶瓷原材料,主要采用濕式研磨的生產(chǎn)工藝,具有純度高、粒度分布窄、流動性好、穩(wěn)定性強等優(yōu)點,生產(chǎn)的產(chǎn)品密度高、高硬度耐磨、耐腐蝕等特點,廣泛應用于密封件、防彈裝備、碳化硅3D手機背板玻璃熱彎模具、加熱板、軸套、航天、航空、核工業(yè)、石油、化工、機械汽車、船舶、泵閥、新能源及科研國防軍事等領(lǐng)域。 納米碳化硅特點:比表面積大,高表面活性,松裝密度低,具有高硬度,高耐磨性和良好的自潤滑,高熱傳導率,低